phase shift mask加上多重曝光還是有很多限制
是不得已中的辦法

現實來說, 5nm和7nm最大的差距會在介電質漏電, 不是只有曝光機的差距, 也還有材料的挑戰
同樣, 5轉進到3也是一樣問題

大家可以等著看護國神山年底n3花式翻車