中芯國際工程師自爆，中國自行開發的 DUV曝光機問題一推
目前根本沒有製造出功能良好的DUV曝光機。
此話等於打臉之前傳出中國上海微電子即將量產28奈米 DUV的訊息。
連28nm都搞不定了.天天幻想7nm
真是可憐
中芯國際工程師自己洩露了這些機器容易出現問題的投訴
中國並未製造出功能良好的 ArF 曝光機。
並強調
中國使用外國設備製造晶片的技術落後很多年
其國產設備更是落後外國幾十年。
中芯國際可以使用 DUV 製造 7奈米晶片
但良率非常低，也不具成本優勢。
當前因華為不能找外國代工廠，中國嚴重依賴中芯生產其急需的晶片
可能用於「非商業性的特殊用途」。
