口蟈厲害了
可用于130nm工艺 国产高端光刻胶已量产：打破美日垄断
宪瑞2023年03月13日 17:3129
除了光刻机之外，先进半导体工艺还依赖光刻胶，这方面的供应也主要是靠美日等公司，如今国产光刻胶已经在部分领域取得突破，晶瑞电材日前透露他们的光刻胶已经可以用于0.25-0.13um工艺，也就是250-130nm工艺。
晶瑞电材13日在互动平台上表示，公司KrF高端光刻胶部分品种已量产。
子公司瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司的KrF光刻胶产品分辨率达到了 0.25~0.13μm 的技术要求，已通过部分重要客户测试，KrF高端光刻胶...