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pcbd
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加入日期: Oct 2008
文章: 117
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作者rcack
近日,ASML總裁Peter Wennink在接受媒體采訪時,對中國自研光刻機發表了一番頗具爭議的言論。他認爲,中國自研光刻機是一種“破壞性的行爲”,會對全球晶片産業鏈造成沖擊和混亂。 他還特別點名了華爲,稱華爲是一個“非常有能力的公司”,但如果華爲想要自己制造晶片,就需要有自己的光刻機,而這樣做會“打亂”全球供應鏈的平衡。

目前,中國已經取得了一些進展和成果。例如,在DUV光刻機方面,中微公司已經成功推出了90納米、65納米、45納米、28納米等多款産品,並實現了量産交付。

在EUV光刻機方面,中科院半導體所和中科院微電子所聯合研發的EUV-7000光刻機已經完成了樣機的制造,並在2022年底實現了首次曝光。 這款光刻機的分辨率可以達到13納米,預計在2024年實現量産。 此外,中國還在研發更先進的EUV-5000光刻機,目標是實現5納米的制...


等著看另一個爛尾項目
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亂台反民主塔綠斑綠共廁液神經錯亂洗板假帳號集團:jerry20530
舊 2023-04-22, 12:03 PM #4
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