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Golden Member
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引用:
https://weibo.com/2672926347/4943766136554629
2023-09-08
对我国的EUV光刻机要有信心，那些说十几二十年才能做出EUV光刻机的人不是蠢就是坏
EUV光刻机就是个很纯粹的工程问题。
其理论不存在问题，工程上已有公司可以实现，国内需求也足够大，也有一定的基础。人才有，需求有，
可行性没问题，有行业基础，剩下的就是时间和投入。这恰恰是中国的强项
目前国内有三条EUV光刻机研发路线，突出一个我全都要，饱和式研发，不计成本
1.正统路线，也就是ASML的EUV光刻机路线。HW+上海光机所+宇量昇，国家队，走500W LPP光源+复杂
镜头组的技术路线。现在进度最快，技术复杂度相对最高，特别是超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器
技术难度非常高。进度保密
2.改进型路线。广东智能机器研究院(广智院)+华中科技大，他们在尝试一种采用分时高功率光纤激光器
射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器的技术路线。如果他们那个400路光纤
激光器能够成功，将是使用二氧化碳激光器的LPP光源功率的数倍。何时成功还是未知
3.颠覆式路线。清华大学主导的1千瓦级SSMB-EUV光源，直接把光刻机光源变成基础设施--同步辐射光源。
直接把光源变成类似工业园中的电力、蒸汽、纯水等可购买原料。比如：深圳产业光源系统规划了EUV光刻线站
和EUV检测线站等合计四条光束线，六个实验站。
这条技术路线如果成功，可以秒杀上面两条路线。光源外置、极大简化的光路直接把EUV光刻机变成体积大，
但是成本相对较低的批量产品。且更匹配中国极高的基础设施建设能力
个人观点：从2020年10月国内启动举国体制加速研发后，光刻机研发进度极快。第一条技术路线的EUV光刻机
将在2~3年内量产。第三条的技术路线是未来第2代、第3代EUV光刻机的优势路线，也是中国光刻机技术赶超
ASML的关键
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SSMB-EUV好像有一個實驗室在雄安新區
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