竊密跳槽華為? 南韓SK海力士中籍員工離職前印3000張資料 被捕

南韓半導體大廠SK海力士日前出現半導體技術外流華為疑雲。
一名在SK海力士工作的中國籍職員，
因涉嫌將降低半導體不良率的核心技術洩露給華為而被捕，目前正在接受審判。

據朝鮮日報報導，京畿南部警察廳產業技術安保調查隊稱，
一名中國籍30多歲女性涉嫌違反「防止產業技術外流及保護產業技術法」，
於4月底被捕並移送檢方。

報導指出，該名女子於2013年開始在SK海力士的半導體設計缺陷分析的部門工作。
2020年至2022年期間，她擔任負責中國當地法人企業間交易客戶諮詢的組長級職務。
她於2022年6月回到中國，獲得高額年薪合約，跳槽到中國手機大廠華為。

該名女子在離職前影印了3000多張A4紙的資料，
內容涉及在半導體製造過程中降低不良率的核心技術。

SK海力士出於資訊安全的原因，禁止員工使用USB等儲存設備。
與此同時，也會詳細記錄影印內容、影印者和用途等，
而該名女子所影印的文件沒有標明用途。

南韓警方在接到SK海力士報警後展開調查，
並於今年4月在機場逮捕入境南韓的該名女子。
警方認為，她將影印的文件帶離公司，發給外部人士。
但該名女子否認，稱自己沒有洩露技術的意圖。

該名女子目前被提起訴訟，正在水原地方法院驪州分院接受審判。