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ASML總裁炮轟:中國自主研發光刻機 是在破壞全球晶片産業鏈
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加入日期: Apr 2017
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引用:
作者
tseyik
工信部是説可做到小於8nm
工信部重装函〔2024〕254号
工业和信息化部
2024年9月2日
https://www.imaschina.com/article/62750.html
工信部的資料是套刻≤8nm
那個轉載的媒體不懂什麼套刻
看到8nm就以為這台能生產8nm晶片
ArF曝光機是不可能做到8nm的
起碼要ArFi多重曝光才行
7nm的高通S855是ArFi多重曝光的代表作之一
套刻精度控制
https://zh.wikipedia.org/zh-tw/套刻精度控制
套刻误差
https://baike.baidu.com/item/套刻誤差/22197871
2024-09-16, 02:34 PM #
227
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